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[发明专利]研磨液组合物-CN02145898.7有效
发明人：藤井滋夫;吉田宏之;萩原敏也;北山博昭 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2002-06-20 - 公布日： 2003-07-02 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：含有研磨材料和水的研磨液组合物，是沉降度指数80以上，100以下的研磨液组合物，具有使用该研磨液组合物来研磨被研磨基板的工序的基板的制造方法，使用上述研磨液组合物来防止研磨片堵塞的方法，使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用上述的研磨液组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。使用研磨片研磨含有镍的被研磨物时，使用含有分子中具有2个以上亲水基，分子量300以上的亲水性高分子或在pH值8.0可溶解氢氧化镍的化合物和水的组合物研磨来防止研磨片堵塞的方法。
研磨组合

[发明专利]研磨液组合物-CN03127287.8有效
发明人：米田康洋;萩原敏也 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2003-09-30 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：本发明提供能够高速研磨硅、玻璃、氧化物、氮化物、金属等被研磨底材和被加工膜，而且很少发生刮痕的研磨液组合物，使用该研磨液组合物的被研磨底材的研磨方法以及使用该研磨液组合物提高被研磨底材研磨速度的方法。研磨液组合物，在水系介质中含有聚合物粒子以及无机粒子，该无机粒子的平均粒径为5－170nm，而且上述聚合物粒子的平均粒径Dp(nm)和上述无机粒子的平均粒径Di(nm)满足下式(1)：Dp≤Di+50nm，使用该研磨液组合物研磨被研磨底材的被研磨底材的研磨方法，以及使用上述研磨液组合物提高被研磨底材研磨速度的方法。
研磨组合

[发明专利]研磨方法和保持器具-CN201510145698.0在审
发明人：大月伸悟;浅野宏 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2015-03-30 - 公布日： 2015-10-14 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供研磨方法和保持器具。该研磨方法具有这样的研磨工序：在将保持在保持器具上的研磨对象物的研磨面按压接触于研磨垫的状态下，在向研磨垫上供给研磨用组合物的同时使保持器具和研磨垫相对旋转，从而对研磨对象物的研磨面进行研磨。在研磨工序中，保持在保持器具上的研磨对象物维持着研磨对象物的研磨面与研磨垫相对的状态地旋转，改变研磨对象物的朝向。
研磨方法保持器具

[发明专利]研磨用组合物-CN201510176810.7在审
发明人：芹川雅之;诸江泰宏;水谷俊美;中岛丽子 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2015-04-14 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：提供一种研磨用组合物，在使用具有研磨垫的研磨装置研磨由硬脆材料形成的研磨对象物时，可以在150g/cm²以上的高研磨载荷(研磨压力)条件下以高研磨速度研磨由维氏硬度超过1500HV的硬脆材料形成的研磨对象物、且可以抑制该研磨对象物表面的损伤等缺陷的产生、研磨垫或保持夹具等的损伤的产生。一种研磨用组合物，其用于使用具有研磨垫的研磨装置以150g/cm²以上的研磨载荷研磨由维氏硬度超过1500HV的硬脆材料形成的研磨对象物的用途，所述研磨用组合物包含磨粒，和水，和吸附于前述研磨垫表面、降低前述研磨垫与前述研磨对象物之间不必要的摩擦阻力的添加剂。
研磨组合

[发明专利]研磨液组合物-CN02118591.3有效
发明人：大岛良晓 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2002-04-26 - 公布日： 2002-12-11 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：含有磨料、氧化剂、作为研磨促进剂的有机膦酸及水的研磨液组合物,包括用该研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤的基板制造方法,用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的方法,包括用上述研磨液组合物研磨被研磨基板的步骤的减少被研磨基板微小擦伤的方法,以及用上述研磨液组合物促进磁盘用基板的研磨的方法。上述研磨液组合物适合研磨记忆硬盘驱动器所用的要求有高表面质量的磁盘用基板。
研磨组合

[发明专利]研磨方法及研磨装置-CN201810514993.2有效
发明人：渡边笃史;横川克也;栗本宏高 -专利权人：信越半导体株式会社
申请日： 2018-05-25 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在不受每片支承板各自的形状差的影响而控制晶圆的平坦度的研磨方法及研磨装置。该研磨方法以支承板而支承被研磨物，将支承被研磨物的支承板予以装备至研磨头，研磨头配置于研磨装置，通过研磨头将被支承板所支承的被研磨物以指定的压力而推压至贴附于研磨台的研磨布，并使相对运动而借以研磨被研磨物的表面，其中在以支承板而支承该被研磨物之前，先测量支承板的支承被研磨物的支承面的形状，依测量完成的支承面的形状，调整由研磨头对于支承板的推压分布，再研磨被研磨物。
研磨方法装置

[发明专利]研磨方法和研磨用组合物-CN202280013238.0在审
发明人：中贝雄一郎;织田博之;伊藤康昭;井出匠学;高见信一郎 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2022-02-02 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供一种研磨方法和研磨用组合物，其适用于碳化硅的研磨，能够抑制研磨中的研磨用组合物的pH上升和垫温度上升。提供一种对具有由碳化硅构成的表面的研磨对象物进行研磨的方法。该方法包括：准备研磨用组合物的工序；以及、对上述研磨对象物供给上述研磨用组合物而对该研磨对象物进行研磨的工序。上述研磨用组合物包含高锰酸盐、金属盐A和水。
研磨方法组合

[实用新型]一种瓷砖生产用研磨装置-CN201920154061.1有效
发明人：王文进 -专利权人：福建省晋江市丹豪陶瓷有限公司
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： B02C4/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种瓷砖生产用研磨装置，包括第一硬质物研磨桶、第二硬质物研磨桶与粘土研磨桶，所述第一硬质物研磨桶顶部设有两个第一电机，所述第一电机之间设有入料口，本实用新型通过设置第一硬质物研磨桶与第二硬质物研磨桶，将硬质物从入料口加入，并打开第一电机使横杆与研磨头转动对硬质物进行初步的碾碎，碾碎后的硬质物进入筛网上方，筛下物进入粘土研磨桶内，筛上物通过下料软管进入第二硬质物研磨桶，在主动研磨辊与从动研磨辊的研磨作用下，粗粒的硬质物被完全粉碎，并进入粘土研磨桶，与粘土研磨桶内的粘土混合，共同研磨，还可以打开气缸驱动活塞杆带动推料板移动，将筛网顶部残留的物料推入下料软管内。
研磨桶硬质物粘土本实用新型电机下料软管研磨入料口研磨辊碾碎筛网瓷砖生产气缸驱动研磨装置活塞杆筛上物筛下物推料板研磨头横杆粗粒推入转动残留移动

[实用新型]改良型研磨介物结构-CN99217361.2无效
发明人：蔡政廷 -专利权人：蔡政廷
申请日： 1999-08-02 - 公布日： 2000-06-28 - 主分类号： B24D13/10 文献下载
摘要：本实用新型一种改良型研磨介物结构,其中,该研磨介物之本体表面系植附有刷毛,该刷毛之外侧端系切成推拔状;藉之,当研磨介物对被研磨物进行研磨时,刷毛可伸入被研磨物之研磨死角进行研磨,以提高被研磨物之品质、质感并降低不良产品率本实用新型结构简单、制作容易、使用效果好、研磨范围大、能对被研磨物品进行全方位的研磨,研磨的成品率高、降低了成本、提高了经济效益。
改良研磨结构

[发明专利]研磨用组合物-CN201380057157.1无效
发明人：大西正悟;石田康登;平野达彦 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2013-10-29 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：提供一种研磨用组合物，其适用于具有金属布线层(14)的研磨对象物的研磨，可以维持高研磨速度且减少高度差缺陷。一种研磨用组合物，其用于具有金属布线层(14)的研磨对象物的研磨，该研磨用组合物包含：金属防腐剂、络合剂、表面活性剂、和水，使用前述研磨用组合物研磨前述研磨对象物后的研磨对象物表面的固体表面能为30mN
研磨组合

[发明专利]一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法-CN200910223958.6无效
发明人：杨益郎 -专利权人：正峰新能源股份有限公司
申请日： 2009-11-20 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： B82B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法，主要是利用湿式砂磨法，包括个别研磨处理、混合均质处理、初级研磨处理及进阶研磨处理，其中个别研磨处理将含有铜、铟、镓及/或硒的个别颗粒或化合物颗粒研磨成500纳米至600纳米的个别研磨物，混合均质处理将所有个别研磨物混合成混合均质物，初级研磨处理将混合均质物研磨成100纳米至200纳米的初级研磨物，进阶研磨处理将初级研磨物研磨成50纳米以下的进阶研磨物，当作用以制作铜铟镓硒太阳能电池的吸收层的铜铟镓硒纳米颗粒
一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法

[发明专利]研磨用组合物-CN201680020274.4在审
发明人：大西正悟;佐藤刚树;吉崎幸信;坂部晃一 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2016-03-11 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：[课题]本发明的目的在于提供一种可以充分提高氧化硅膜等具有硅‑氧键的研磨对象物的研磨速度或氮化硅膜等具有硅‑氮键的研磨对象物的研磨速度的、研磨用组合物。[解决方案]提供一种研磨用组合物，其具有(1)有机化合物，所述有机化合物具有与具有硅‑氧键或硅‑氮键的研磨对象物相互作用的作用部位、和促进用于研磨前述研磨对象物的研磨成分接近前述研磨对象物的促进部位；(
研磨组合

[实用新型]研磨装置-CN201320023006.1有效
发明人：前田将克 -专利权人：苏州住友电木有限公司
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种研磨装置，具有：研磨部件（9），具有研磨被研磨物（4）的平坦研磨面（10）；保持部（2），所述保持部（2）具有朝所述研磨面（10）且向下开口的收容部（6），所述收容部（6）中，在保持所述被研磨物（4）的同时通过自重将所述被研磨物（4）按压到所述研磨面（10）；以及移动机构（3），通过使所述保持部（2）和所述研磨部件（9）在所述研磨面（10）的面方向上相对移动使所述研磨部件（9）研磨所述被研磨物（4根据本实用新型的研磨装置，能够抑制被研磨物的研磨量的误差。
研磨装置

[发明专利]研磨液组合物-CN201110396859.5有效
发明人：吉野太基 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2011-12-02 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种在不损害生产率的情况下可以减少研磨后的基板表面的划痕及表面波纹的研磨液组合物以及使用有该研磨液组合物的基板的制造以及研磨方法。所述研磨液组合物含有研磨材料、水溶性聚合物以及水，上述水溶性聚合物具有磺酸基且在主链以及侧链上分别具有芳香环。所述基板的制造方法以及研磨方法包含如下工序：将上述研磨液组合物供给至被研磨基板的研磨对象面，使研磨垫接触上述研磨对象面，移动上述研磨垫和/或上述被研磨基板来进行研磨。
研磨组合

[发明专利]研磨装置及研磨方法、以及玻璃板的制造方法-CN200980149953.1有效
发明人：秋山秀;铃木健司;齐藤勋;关昌雄 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2009-12-01 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： B24B49/10 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨装置，使研磨工具和被研磨物相对压紧而移动，并且一边向所述研磨工具与所述被研磨物之间供给研磨液一边利用所述研磨工具研磨所述被研磨物，所述研磨装置的特征在于，具备：AE传感器，安装在支承所述研磨工具或所述被研磨物的板上；异常检测部，基于来自所述被研磨物的弹性波被所述AE传感器检测到时从所述AE传感器发出的输出信号，检测研磨中的异常；及警告单元，当由所述异常检测部检测到所述被研磨物的异常时发出警告。
研磨装置方法以及玻璃板制造

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